光变应性接触性皮炎Photo-allergic contact dermatitis

更新时间:2025-05-27 22:56:27
编码EK01

关键词

索引词Photo-allergic contact dermatitis、光变应性接触性皮炎、光变应性接触性湿疹、按光变应原归类的光变应性接触性皮炎、按光变应原归类的光变应性接触性湿疹、香料引起的光变应性接触性皮炎、防晒霜引起的光变应性接触性皮炎、防晒霜引起的光变应性接触性湿疹、植物引起的光变应性接触性皮炎、植物引起的光变应性接触性湿疹、防腐剂或灭微生物剂引起的光变应性皮炎、非类固醇性消炎药引起的光变应性接触性皮炎、NSAIDs引起的光变应性接触性皮炎、除NSAIDs[非甾体抗炎药]外的药剂引起的光变应性接触性皮炎、全身使用药剂引起的光变应性接触性湿疹、职业性光变应性接触性皮炎、职业性光变应性接触性湿疹
同义词Photo-allergic contact eczema
缩写光变应性皮炎、光敏性接触性皮炎
别名光敏性皮炎、日光性接触性皮炎、光照性接触性皮炎

后配组
注:后配组是ICD-11中的组合模式,通过补充内容更精准描述疾病特征或致病原因。此处非完整版本,详细可自行查阅ICD11官网

发生部位
小腿
XA90X0小腿近端
XA4K86腓肠
XA5U49小腿远端
XA0LQ2小腿后表面
XA15P0小腿内侧面
XA33X4小腿前表面
XA4RR4小腿外侧面
眼睑
XA4AX5下睑缘
XA0JV9下眼睑
XA2GQ3内眦
XA53T1上睑缘
XA0403外眦
XA4649上睑沟
XA9K79上眼睑
XA6NQ7口腔黏膜
XA2RP7踇趾
XA9L52第五趾甲床
XA43K6第五趾甲床沟
XA0SL7第二趾甲外皮
XA4U10第五趾甲板
XA5446第二趾甲周表皮
XA2A07足第四趾蹼
XA6189第三趾甲床
XA1RE3大拇趾趾甲
XA3LW9第三趾甲板
XA9Y82足外侧缘
XA2F64大拇趾甲下皮
XA6VJ2大拇趾垫
XA3VM6第五趾趾甲
XA7J49趾背面
XA8HC5第二趾蹼间隙
XA4ZB3第四趾甲下皮
XA1MM3第三趾侧甲襞
XA9UL1第三趾甲半月
XA02P2足中部背面
XA3WM8足内侧缘
XA7GD8大拇趾侧甲襞
XA9LB9第三趾蹼间隙
XA7GG3第二趾趾甲
XA8F87第四趾甲板
XA86J0第四跖骨头区
XA3C43第五趾垫
XA7WP9大拇趾甲外皮
XA65U3第四趾甲床
XA0DD8第五趾甲下皮
XA0HX8大拇趾甲床
XA05N7第五跖骨头区
XA2PD3第四趾甲半月
XA2Y79第四趾甲床沟
XA14Y9趾侧
XA81N1第一趾蹼间隙
XA9E36趾甲
XA1WQ6第二趾甲板
XA1AV3第五趾甲周表皮
XA1FL5趾蹼间隙
XA4LC9
XA6TS5第四趾趾甲
XA7B22第二趾甲床
XA1XM4足底
XA4774大拇趾甲周表皮
XA81Z3前足背面
XA9LJ5趾跖面
XA3D73第三趾趾甲
XA5JP9第三趾垫
XA8BE2足背
XA3UC8第三趾甲周表皮
XA5HK0足跟
XA5151中足
XA9439第二趾甲半月
XA2H72第三趾甲下皮
XA0SP3第三趾
XA6V29第一跖骨头区
XA8L19大拇趾甲床沟
XA3R99足跟外侧面
XA5ZE2足跟后表面
XA4KK7第四趾
XA6KE9前足跖面
XA2N02足跟跖面
XA38J0第五趾侧甲襞
XA64R9大拇趾甲半月
XA0XZ8第四趾甲外皮
XA1ED1第二趾甲床沟
XA2ZJ7第二趾甲下皮
XA2W24第五趾甲外皮
XA3626第二趾垫
XA8DQ2第三趾甲外皮
XA3T29足弓
XA8ZZ3第二趾
XA9316第四趾垫
XA0PV4第四趾侧甲襞
XA42W4第五趾
XA2484第三趾甲床沟
XA47T1大拇趾甲板
XA0HX4第三跖骨头部区域
XA99M7后足部
XA1PK7第五趾甲半月
XA1QH8足跟内侧面
XA7003第二趾侧甲襞
XA40R3第四趾甲周表皮
XA2P22第二跖骨头区
XA5YL1前足
XA10T8中指甲板
XA8KX8中指甲下皮
XA65Z3指蹼
XA3MW5无名指甲床
XA9Y99中指尖
XA3FJ0掌远端
XA1F61无名指甲床沟
XA91S7无名指尖
XA7K11无名指甲周表皮
XA2UG0示指甲下皮
XA76N2拇指背面
XA8QW7小指尖
XA5TQ4小鱼际隆起
XA6NZ0示指
XA41X5食指尖
XA5EN3小指
XA4012手的第三指蹼
XA90K8示指指甲外皮
XA5ZV0拇指垫
XA6TA9示指垫
XA4GD7拇指侧甲襞
XA29K9小指指甲
XA63L0拇指甲小皮
XA2JN4鱼际隆起
XA0RL8拇指甲周表皮
XA06X8无名指
XA5V24拇指甲板
XA1W89无名指甲下皮
XA2A53中指甲床
XA6HB9小指甲床
XA3LC5小指侧甲襞
XA1BR6手的第一指蹼
XA3T43指关节
XA3HG9无名指侧甲襞
XA8YE5中指甲床沟
XA30Z6手背
XA1SB3示指甲床
XA0EH9指甲
XA13E9拇指近端甲襞
XA4WN3小指垫
XA4A79小指甲板
XA4KU5小指甲床沟
XA6YH1示指甲周表皮
XA3NY8手掌
XA6Y59无名指指甲
XA2AV8小指指甲外皮
XA3R66小指甲半月
XA2XE0示指甲板
XA7GT9指尖
XA8VS0中指甲半月
XA9YZ9中指指甲
XA1FY2中指甲周表皮
XA5PY9手的第二指蹼
XA8DJ6拇指
XA1C10小指甲下皮
XA50E4掌心
XA40D9示指指甲
XA3PS0无名指甲板
XA2N38中指侧甲襞
XA6DM1拇指轮
XA9N39拇指甲床
XA4HZ3手指侧面
XA13L6中指指甲外皮
XA4P58无名指甲半月
XA6C72无名指垫
XA8L06无名指指甲外皮
XA0Y38中指
XA2593手指
XA20L7拇指指甲外皮
XA79X0中指垫
XA1GS3示指甲半月
XA89P0小指甲周表皮
XA5PD5拇指指甲
XA00D7掌近端
XA3WG2手的第四指蹼
头皮
XA4W34顶头皮
XA6AL1头皮边缘
XA5BY6头顶
XA9DZ0颞头皮
XA93S9顶头皮边缘
XA0WK0额头皮
XA26C1颞头皮边缘
XA3EK3枕头皮边缘
XA0WG9额头皮边缘
XA7JE5枕头皮
肛周区
XA2F27股沟
XA53N9会阴
生殖区
XA8MT4阴囊
XA1AK8男性外生殖器
XA9PG6女性外生殖器
外耳
XA1BZ8耳轮尾
XA9E26耳廓皮肤
XA0TW7耳垂
XA9A86耳轮脚
XA3UC1外耳道
XA96Q7对耳轮脚
XA6NU1反螺旋窝
XA4DV9耳后沟
XA5GS5外耳道口
XA7AB8耳轮棘
XA3S47耳廓后表面
XA5KM5耳甲艇
XA0H47耳舟隆起
XA9M10螺旋顶点
XA2N71耳屏
XA4E71耳廓
XA5LW2耳廓舟状窝
XA8VK6三角窝隆起
XA8W55耳廓耳甲
XA7V14对耳轮
XA7RR9对耳屏
XA6B58耳轮
XA6KW8耳甲隆起
XA8D58耳廓耳甲腔
XA5VK5耳屏间切迹
XA3RC6耳廓三角窝
XA5K66盯聍腺
XA4QS6颈前
XA1NS6颈前三角
XA0MP5下颌下区
XA45K8颈后三角
XA2ZF0颈侧
XA5TZ1颏下区
XA9DQ5锁骨上区
XA1M78颈背
XA8RA2胸骨上切迹
XA9SG2额中
XA3H13
XA1Z38额侧
XA7LG9鼻翼缘
XA7H02下唇唇红
XA7MK8
XA3ZL3鼻旁区
XA1A48口周区
XA7VQ4上唇
XA1B05鼻孔
XA7207下颊
XA1BP2唇内面
XA8KA2下颌区
XA5VD0外下唇
XA0K68外上唇
XA75S0上唇唇红
XA15W6下唇
XA0M67颧区
XA0LR7鼻根
XA5163鼻唇沟
XA5ED7鼻翼沟
XA6C41中颊
XA8RK1上唇红缘
XA0SU2耳前区
XA5KE9上颊
XA04T9鼻部皮肤
XA29E7眶区
XA5WP1眶上区
XA3141唇系带
XA5YP3鼻梁
XA9T94
XA1UW4前额旁正中皮瓣
XA3K27外唇
XA3ZG3鼻尖下小叶
XA8JD4
XA6TV2眶下区
XA9JN5鼻侧壁
XA2TK5鼻翼侧壁
XA1LZ5
XA32Q9鼻翼
XA57N0颧骨隆起
XA3057鼻尖上
XA2C62
XA4S17小柱
XA90D8眉间
XA9TK2下唇红缘
XA5LY8人中
XA9YZ7鼻孔槛
XA6TR8
XA5A87口区
XA56T3鼻尖
XA1EF8唇联合
XA0SB3眶周区
关联情况
过敏原
塑料、胶水或树脂系统中的接触性过敏原
防晒霜中的光过敏原
外用药物中的接触性过敏原
美发产品中的接触性过敏原
低分子量光半抗原
高分子量过敏原
防腐剂或杀菌剂中的光变应原
植物或蔬菜中的光变应原
化妆品中的接触性过敏原
食品香料或添加剂中的接触性过敏原
香料中的光过敏原
金属或金属盐中的接触性过敏原
橡胶化学品中的接触性过敏原
香料中的接触性过敏原
防腐剂或杀菌剂中的接触性过敏原
牙科材料中的接触性过敏原
全身性药物中的接触性过敏原
蛋白质过敏原
药物中的光过敏原
衣服或鞋子中的接触性过敏原
工业杀菌剂、切削油或消毒剂中的接触性过敏原
植物或其他有机物中的接触性过敏原
低分子量半抗原
职业相关性
XB5G职业作为辅助因素
XB80非职业相关性
XB17职业作为主要因素

光变应性接触性皮炎的临床与医学定义及病因说明

临床与医学定义

光变应性接触性皮炎(Photo-allergic Contact Dermatitis)是一种皮肤炎症反应,由接触含有光变应原物质的化妆品、药物或其他外源性物质后,在暴露于紫外线(UV)的情况下引发。这类反应属于T细胞介导的湿疹性反应。母体化合物在未经紫外线照射之前通常不会引起过敏反应,只有在紫外线作用下发生光化学修饰后形成完全抗原才具有致敏性。


病因学特征

  1. 光变应原机制

    • 光变应原是指经特定波长紫外线激活后能与载体蛋白结合形成完全抗原的化学物质,包括香料、防晒剂成分、植物光敏化合物及某些药物等。这些物质经紫外线诱导的结构变化使其获得免疫原性,通过朗格汉斯细胞递呈激活T淋巴细胞,引发IV型超敏反应。
    • 该过程涉及半抗原-载体复合物的形成,最终导致以单个核细胞浸润为主的迟发型变态反应。
  2. 常见诱因分类

    • 香料相关型:香水、清洁剂中的合成麝香等芳香物质。
    • 防晒剂相关型:某些化学性防晒剂如氧苯酮、奥克立林等。
    • 植物相关型:伞形科植物(如芹菜)及芸香科植物(如柠檬)所含呋喃香豆素类。
    • 防腐/抗菌剂相关型:异噻唑啉酮类、氯己定等。
    • 药物相关型:外用非甾体抗炎药(NSAIDs)、磺胺类及吩噻嗪类。
    • 职业相关型:接触煤焦油衍生物、卤代水杨酰苯胺的从业人员。

病理机制

  1. 免疫致敏阶段

    • 紫外线(主要为UVA)促使光变应原形成活性代谢产物,与表皮蛋白共价结合形成新抗原。朗格汉斯细胞摄取并递呈抗原至局部淋巴结,激活抗原特异性T淋巴细胞克隆增殖。
  2. 效应阶段

    • 再次暴露于同种光变应原及紫外线后,致敏T细胞迁移至皮肤,通过释放IFN-γ、IL-17等细胞因子,引发海绵水肿、血管扩张及淋巴细胞浸润等典型湿疹样病理改变。
  3. 慢性化过程

    • 反复暴露导致记忆T细胞形成,致敏程度增强,皮损范围可扩展至非直接接触区域。长期慢性炎症可伴发角化过度和色素紊乱。

临床表现

  1. 症状特征
    • 急性期表现:光照后24-72小时出现境界相对清晰的湿疹样皮损,特征为红斑基础上密集针尖大小丘疱疹,伴剧烈瘙痒。严重者可出现渗出、结痂。
    • 慢性期表现:苔藓样变、鳞屑及色素沉着/减退交替分布。
    • 部位特征:好发于光暴露区(颜面、颈V区、前臂伸侧),但可因间接接触扩散至遮盖部位。

参考文献:《皮肤病学》、《临床皮肤病学》等相关专业书籍及学术期刊文章。

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